研究設備
その他設備：早稲田大学物性計測センター https://www.cf.waseda.ac.jp/
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NEW‼ 円偏光ルミネセンス測定システム（CPL-300F）
150 WオゾンレスXeランプを励起光源とし、280 nm、365 nm、および500 nmなどの励起光（フィルター分光）を用いた円偏光発光（CPL）測定が可能です。溶液試料および薄膜試料に対応しており、磁場印加下（1.6T）での磁気円偏光発光（MCPL）測定の可能です。
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走査型プローブ顕微鏡（SPM-9700HT ）
スピン偏極電流の局所測定が可能です（スピンコンダクティブAFM）。光照射下での微小電流計測、表面電位（KFM）測定などにも対応しています。また、露点−8 ℃の低湿度環境で測定できるため、大気中で劣化しやすい試料の評価にも適しています。 -
NEW‼ 示差走査熱量計（DSC-60plus）
材料の相転移、熱安定性、結晶化・融解挙動などを評価することができます。-50～500 ℃の温度範囲で測定可能です。 -
円偏光照射電流電圧測定システム
半導体レーザー光を直線偏光子および1/4波長板により円偏光へ変換し、デバイス背面から照射することが可能です。
最大8素子の同時（連続）測定にも対応しています。 -
renewed!! 角度依存円偏光照射電流電圧測定システム
入射角度を制御しながら、円偏光および直線偏光を
サンプル上部から照射することが可能です。
単結晶試料における光起電力測定など、角度依存特性の評価に対応しています。 -
new!! 卓上電子顕微鏡（SEM Phenom G6 ProX ）
簡単、スピーディに粒子形状やデバイス断面の観察・分析が可能です（SEM像表示まで1分以内）。
高輝度・長寿命のCeB6電子銃を搭載、反射電子・二次電子像の観察、EDS分析が可能です。 -
円二色性分散計（J-1500）
溶液（250～1600nm）および固体（250～900nm）の円偏光二色性（CD）スペクトルを測定できます。
直線偏光（LD）などの同時測定が可能です。
固体サンプルは積分球を用いた拡散反射法により測定、微小セルホルダを用いることで、少量試料も測定にも対応しています。
磁場印加下（1.6T）でのCD測定（MCD）も可能です。 -
絶対PL量子収率測定装置（Quantaurus-QY Plus）
1650 nmまでの近赤外領域測定、高感度測定（低量子収率の評価）、アップコンバージョン発光測定が可能です。
励起光源は、高出力キセノンランプ、ダイオードレーザー（980・793・630nm）を選択できます。 -
アップコンバージョン評価システム
1550nm, 980nmおよび808nmレーザーを集光し（ミラーで波長切り替え）、アップコンバージョン材料に照射します。
小型分光器でスペクトルと強度を測定します。 -
蛍光寿命測定装置 （Quantaurus-Tau）
波長領域380 nm ～ 1030 nm、サブナノ秒～ミリ秒の蛍光寿命を測定できます。
固体、薄膜、粉体での測定が可能です。
Xeフラッシュランプでアップコンバージョンの寿命も測定できます。 -
示差熱・熱重量同時測定 熱分析装置（DTG-60）
窒素ガス雰囲気下で示差熱・熱重量（TG/DTAの同時測定ができます。 -
インクジェット吐出実験装置
吐出液滴を観察しながら、ペロブスカイト前駆体溶液などを高精度に吐出・パターニングすることができます。
結晶膜を用いたデバイスの試作が可能です。 -
デスクトップＸ線回折装置（MiniFlex）
高速１次元検出器D/teX Ultra2を用いた薄膜や粉末試料の測定が可能です。 -
センサーガスクロマトグラフ
水素を10ppbから高感度に検出・定量することができます。 -
エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析装置（EDX-7200）
軽元素の高感度測定（真空測定）や微量分析が可能です。 -
紫外可視分光光度計（UV-2600）
積分球ユニットを用いた固体測定や直線偏光吸収測定も可能です。 -
分光蛍光光度計（FP-8600）
測定波長範囲（200－1010nm）、直線偏光発光、液体窒素温度での測定が可能です。 -
赤外分光光度計（FT-IR/4600）
ATR（全反射吸収測定）、RAS（高感度反射測定、偏光対応）、拡散反射測定が可能です。 -
粒子径分布測定装置（Litesizer 500）
動的光散乱法 (DLS)による粒子径計測が可能です。
また、電気泳動光散乱法によるゼータ電位測定を行うことができます。 -
ドライ・クリーンブース（＜class1000, 湿度＜20％）
クリーンかつ湿度20％以下の環境で、薄膜材料やデバイスを安定的に作製・評価することができます。 -
自動塗布成膜（スピンコート）装置
ペロブスカイト薄膜（貧溶媒法）やホール輸送層を自動で成膜（スピンコート）することができます（ペクセル・テクノロジーズ社製）。
スピンコート成膜における人依存が低減され、均一な膜を高い再現性で成膜可能です。 -
new!! Sagami_2ポートグローブボックス -
真空＆温度自動制御装置
真空圧や温度制御が難しいアップコンバージョンナノ粒子の合成時に使用します。
高い精度でナノ～マイクロサイズの粒子を均一に合成できます。 -
真空蒸着装置（抵抗加熱式、SVC-700TMSG/7PS800E）
金属（電極）蒸着のほか、有機物の蒸着も可能です。 -
スピンコーター（MS-A100 ） -
真空ライン（ナノ粒子合成） -
UVオゾン処理装置