研究設備

new!! 円二色性分散計(J-1500)

溶液(250~1600nm)および固体(250~900nm)の

円偏光二色性(CD)スペクトルを測定できます。

直線偏光(LD)などの同時測定が可能です。

固体サンプルは積分球を用いた拡散反射法により測定、

微小セルホルダを用いることで、少量試料も測定可能です。

絶対PL量子収率測定装置(Quantaurus-QY Plus)

1650 nmまでの近赤外領域測定、高感度測定(低量子収率の評価)、
アップコンバージョン発光測定が可能です。

励起光源は、高出力キセノンランプ、

ダイオードレーザー(980・793・630nm)を選択できます。

new!アップコンバージョン評価システム

980nmおよび808nmレーザーを集光し(ミラーで波長切り替え)、

アップコンバージョン材料に照射します。

小型分光器でスペクトルと強度を測定します。


new!! 蛍光寿命測定装置 (Quantaurus-Tau)

波長領域380 nm ~ 1030 nm、サブナノ秒~ミリ秒の

蛍光寿命を測定できます。

固体、薄膜、粉体での測定が可能です。

Xeフラッシュランプでアップコンバージョンの寿命も測定できます。

new!! 示差熱・熱重量同時測定 熱分析装置(DTG-60)

窒素ガス雰囲気下で示差熱・熱重量(TG/DTA)の同時測定ができます。

new!インクジェット吐出実験装置

吐出液滴を観察しながら、ペロブスカイト前駆体溶液などを

高精度に吐出・パターニングすることができます。

結晶膜を用いたデバイスの試作が可能です。 

査型プローブ顕微鏡(SPM-9700HT )

光照射下での測定や微小電流、表面電位(KFM)測定も可能です。


デスクトップX線回折装置(MiniFlex)

高速1次元検出器D/teX Ultra2を用いた薄膜や粉末試料の測定が可能です。

new!! センサーガスクロマトグラフ

水素を10ppbから高感度に検出・定量することができます。


エネルギー分散型蛍光X線分析装置(EDX-7200)

軽元素の高感度測定(真空測定)や微量分析が可能です。


 紫外可視分光光度計(UV-2600)

積分球ユニットを用いた固体測定や直線偏光吸収測定も可能です。

分光蛍光光度計(FP-8600)

測定波長範囲(200-1010nm)、直線偏光発光、

液体窒素温度での測定が可能です。

赤外分光光度計(FT-IR/4600)

ATR(全反射吸収測定)、RAS(高感度反射測定、偏光対応)、

拡散反射測定が可能です。


微小電流高速光応答測定システム


プログラマブル電流増幅器(CA5350)、

ライトチョッパ(4Hz~4kHz)、オシロスコープを

用いて微小電流の高速光応答を計測できます。

光照射型マニュアルプローバー

円偏光やモノクロメータ式キセノン光源(MAX-350)

を裏面から照射できます(照射波長:385-1050nm)。

微弱な光照射下での、電流電圧測定が可能です。




new!! 円偏光照射電流電圧測定システム

半導体レーザー光を直線偏光子・λ/4波長板により円偏光に変換し、

裏面からデバイスに照射できます。8素子の連続測定が可能です。

new!! 粒子径分布測定装置(Litesizer 500

動的光散乱法 (DLS)による粒子径計測が可能です。

また、電気泳動光散乱法によるゼータ電位測定を行うことができます。 


new!! ドライ・クリーンブース(class1000, 湿度<20%)

クリーンかつ湿度20%以下の環境で、薄膜材料やデバイスを安定的に作製・評価することができます。

new!! 自動塗布成膜(スピンコート)装置

ペロブスカイト薄膜(貧溶媒法)やホール輸送層を自動で成膜

(スピンコート)することができます(ペクセル・テクノロジーズ社製)。

スピンコート成膜における人依存が低減され、均一な膜を高い再現性で成膜可能です。


new!! 真空&温度自動制御装置

真空圧や温度制御が難しいアップコンバージョンナノ粒子の合成時に使用します。

高い精度でナノ~マイクロサイズの粒子を均一に合成できます。

真空蒸着装置(抵抗加熱式、SVC-700TMSG/7PS800E)

金属(電極)蒸着のほか、有機物の蒸着も可能です。

スピンコーター(MS-A100 

UVオゾン処理装置

真空ライン(ナノ粒子合成)

その他設備:早稲田大学物性計測センター https://www.cf.waseda.ac.jp/